薄膜与镀膜材料

材料特性，决定显示性能。

在 LT金属，这份精密每天都更进一步。

薄膜材料通过溅射（Sputtering）或蒸镀（Evaporation）工艺，形成数纳米至数微米厚的功能性金属层。靶材的纯度、密度、晶体结构与成分均匀性，直接决定薄膜的电学与光学特性。在半导体、显示、太阳能电池、医疗器械等领域，薄膜材料的品质既决定产品性能，也决定制造的稳定性。 LT金属以自主粉体合成技术，实现了 ITO 靶材的韩国本土化生产。依托多年积累的金属合金技术，我们在陶瓷靶材与金属靶材上均实现了一致的品质与稳定的性能。

工艺选择指南

溅射 vs. 蒸镀 – 各工艺最佳材料

工艺方式	要求特性	LT Metal供应材料	主要应用
溅射 (Sputtering)	大面积均匀、Low Particle 高纯度、高密度低电阻、蚀刻性·高附着力高透过率、高反射率	Pure金属及合金靶材陶瓷靶材混合靶材	TFT Gate、S/D布线 Buffer、扩散阻挡、Capping Layer Active Layer、透明电极 OLED Anode Cathode 低反射膜、高反射膜
蒸镀 (Evaporation)	高纯度、Low Gas含量	Ag(Disk, Pellet, Granule) Pt Pellet	OLED Cathode 研发用

显示 vs. 半导体 vs. 光伏 – 各行业最佳材料

行业	要求特性	LT Metal供应材料	主要应用
显示	大面积均匀、Low Particle 高纯度、高密度、Low Gas含量低电阻、蚀刻性·高附着力高透过率、高反射率	Pure金属及合金靶材陶瓷靶材混合靶材	TFT Gate、S/D布线 Buffer、扩散阻挡、Capping Layer Active Layer、透明电极 OLED Anode Cathode 低反射膜、高反射膜研发用
半导体	高纯度、Low Gas含量大面积均匀、Low Particle 晶粒控制	Pure金属及合金靶材	布线、Barrier、扩散阻挡 Bumping EMI-Shield 研发用
光伏	大面积均匀、Low Particle 高纯度、高密度高迁移率、低电阻、高透过率	陶瓷靶材 Pure金属靶材	晶硅TCO层电极及种子Layer