박막 소재

나노미터 단위의 박막, LT메탈의 소재 기술로 완성됩니다.

From display panels to AI semiconductor chips — precision thin-film materials by LT Metal.

개요

Ceramic Target 개요

오늘날 디스플레이 산업은 고해상도화, 저소비전력, 대면적 생산이 요구되고 있습니다. LT메탈은 고밀도 소결 및 정밀 가공 기술을 바탕으로 ITO, IGZO와 같은 산화물 타겟 재료로, 일반적인 Planar Type부터 Rotary Type 등 특수한 형상의 제품에 이르기까지 균일한 조성과 안정적인 박막 특성을 확보하여 고객 여러분들의 기대를 만족시켜 드릴 것입니다.

산업군 제품 조성 순도 형상 주요 적용 분야
디스플레이 ITO SnO2 10%
(기타 조성은 별도 문의)
4N 이상 Planer & Rotary LCD 및 OLED 투명 전극
IZO ZnO 10%
(기타 조성은 별도 문의)
4N 이상 Planer & Rotary 투명 전극
IGZO 1 : 1 : 1
(기타 조성은 별도 문의)
4N 이상 Planer & Rotary TFT 반도체 Active Layer
ITZO 별도 문의 4N 이상 Planer & Rotary TFT 반도체 Active Layer
상부태양광 ITO SnO2 1/3/5/7/10%
(기타 조성은 별도 문의)
4N 이상 Rotary 전면, 후면 전극
IZO ZnO 10%
(기타 조성은 별도 문의)
4N 이상 Rotary 상부 전극
IXO 별도 문의 4N 이상 Rotary 상부 전극

왜 LT메탈인가

세 가지 설계 역량

LT메탈이 글로벌 고객에게 선택받는 이유는 조성, 구조, 신뢰에 대한 설계 역량을 바탕으로 고객이 요구하는 성능과 품질을 구현할 수 있기 때문입니다.
이것이 LT메탈의 핵심 경쟁력입니다.

조성을 설계합니다

타겟 소재의 합금 조성과 불순물 수준이 박막의 전기적·광학적 특성을 직접 결정합니다. LT메탈은 고객의 증착 공정 조건(온도, 압력, 전력 밀도)을 분석하여 최적의 조성을 갖춘 타겟 소재를 설계합니다.

구조를 설계합니다

ITO Target을 포함한 기능성 타겟 소재의 분말을 자체 합성하는 원천 기술로, 입도 분포, 산소 함량, 소결 밀도를 처음부터 설계합니다. 파티클 발생과 이상 방전이 없는 타겟 구조를 보장합니다.

신뢰를 설계합니다

소재 공급에 그치지 않고 고객의 증착 공정에서 최적 성능이 발휘되도록 공정 조건 협의, 시제품 평가, 문제 발생 시 원인 분석까지 신뢰성 지원 체계를 설계합니다.

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